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英文字典中文字典相关资料:


  • 光刻胶_百度百科
    光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。 由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。 在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。
  • 半导体芯片制造核心材料“光刻胶（Photoresist）”的详解； - 知乎
    而严格来说，在芯片制造这场微观世界的雕刻盛宴中，光刻胶（PR）如同一位技艺精湛的工匠手中的隐形画笔，在硅片这片“晶圆画布”上勾勒出亿万个晶体管组成的复杂电路。 然而，这支“画笔”却成了中国芯片产业最难突破的瓶颈之一：
  • 半导体一些术语的中英文对照 (收藏)
    光刻胶：photoresist，又称“光致抗蚀剂”。 负性光刻胶：negative photoresist 正性光刻胶：positive photoresist 无机光刻胶：inorganic resist 多层光刻胶：multilevel resist 电子束光刻胶：electron beam resist X射线光刻胶：X-ray resist 刷洗：scrubbing 甩胶：spinning 涂胶
  • 光刻胶 - 维基百科，自由的百科全书
    光刻胶 （英語： photoresist，台湾作 光阻劑），亦稱為 光阻，是指經過 紫外光 、深紫外光、 电子束 、 离子束 、 X射线 等光照或辐射後，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是 光刻 工艺中的关键材料，主要应用于 積體电路 和 離散元件 的细微图形加工。
  • 光刻胶怎么翻译_光刻胶英文用法_光刻胶英语例句_淘宝翻译网
    光刻胶 英文翻译 Photoresist 常用于半导体制造领域的标准术语 Photolithographic Resin 强调材料属性时的技术性表达 UV-sensitive Resist 特指对紫外线敏感的光刻胶类型 Positive-tone Resist 用于描述显影后曝光区域溶解的正性光刻胶
  • 光刻胶是什么意思_光刻胶的翻译_音标_读音_用法_例句_爱 . . .
    爱词霸权威在线词典,为您提供光刻胶的中文意思,光刻胶的用法讲解,光刻胶的读音,光刻胶的同义词,光刻胶的反义词,光刻胶的例句等英语服务。
  • 光刻胶,photoresist英语短句,例句大全
    光刻胶 又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。 感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。 经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图）。 光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。 光刻胶的技术复杂，品种较多。 根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。 光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。 利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。 基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。
  • 干货：常用半导体中英对照表（建议收藏）-电子工程专辑
    加之从业者很多都有海外经历或习惯于用英文表达相关技术和工艺节点，这就导致许多英文术语翻译成中文后，仍有不少人照应不上或不知如何翻译。 为此，我们整理了一些常用的半导体术语的中英文对照表，希望对大家有所帮助。
  • 光刻膠 - 維基百科，自由的百科全書
    光阻劑 （英語： photoresist，中國大陸作 光刻膠），亦稱為 光阻，是指經過 紫外光 、深紫外光、 電子束 、 離子束 、 X射線 等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是 光刻 工藝中的關鍵材料，主要應用於 積體電路 和 離散元件 的細微圖形加工。
  • 光刻化学01-光刻胶，resist - 百度知道
    光刻胶（英语：photoresist），亦称为光阻或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。 光刻胶通常使用在紫外光波段或更小的波长 (小于400纳米)进行曝光。 根据使用的不同波长的曝光光源，如KrF（248nm），ArF（193nm）和EUV（13 5nm），相应的光刻胶组分也会有一定的变化。 如248nm光刻胶常用聚对羟基苯乙烯及其衍生物为光刻胶主体材料，193nm光刻胶为聚酯环族丙烯酸酯及其共聚物，EUV光刻胶常用聚酯衍生物和分子玻璃单组分材料等为主体材料。 除主体材料外，光刻胶一般还会添加光刻胶溶剂，光致产酸剂，交联剂或其他添加剂等。





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